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光刻的英文
发音:
- 英文翻译
- 造句
- [物理学] photoetching
◇光刻材料 photoetching material; 光刻工艺 photoetching technology; 光刻技术 photoetching technique; photetch
- 光刻，光蚀 potoeching
- 光刻法 photolithography photoetching method; photomasking; photoprocessing; photoresist process
- 光刻机 lithography machine; photoetching machine
- 光刻胶 optical resist; photosensitive resist
- 光刻蚀 photoengraving; photoetching
- 光刻术 photolithography
- 光刻体 photolithography
- 光刻线 beam photolithographic; photolithographic beam
- x射线光刻 x ray lithography; x ray printing
- 超细光刻 very fine line lithography
- 电子束光刻 beamwriter lithography; electron beam lithography
- 多层光刻胶 multilevel resist
- 发光刻度盘 luminous dial; luminous scale
- 负型光刻胶 negative photoresist
- 固体光刻胶 solid photoresist
- 光刻，光蚀刻法 photoetching
- 光刻材料 photoetching material
- 光刻成像 optical patterning
- 光刻成象 lithographic imagery
- 光刻瓷釉 photoengraving enamel
- 光刻法的 photolithgraphic; photolithographic
- 光刻干工艺 dry photoetching technology
- 光刻工艺 photoetching technology; photolithographic process
- 光刻极限 photolithography limitation
- 光可通过的 roentgenolucent x
- 光可逆性 optical reciprocity
- Vector scan electron beam lithography
矢量扫描电子束光刻 - Automatic photoetching production line
自动光刻生产线 - 1 photolithography : forming electrodes in the form required on the ito film
1光刻：在ito表面形成要求形状的电极。 - Wafer stepper lithography
薄片的步进式光刻 - Very fine line lithography
超细光刻 - Aligner proximity type
接近式光刻机 - The laser trim table ' s long interval of change - line can decrease system ' s efficiency
光刻平台换行时间较长会影响整机的光刻效率。 - Alignment precision - displacement of patterns that occurs during the photolithography process
套准精度-在光刻工艺中精的形图移转度。 - X ray resist x
射线光刻胶 - Alignment precision - displacement of patterns that occurs during the photolithography process
套准精度-在光刻工艺中转移图形的精度。
光刻（）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
详细百科解释
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Last modified time:Sun, 10 Aug 2025 00:29:56 GMT
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