双面光刻造句
例句与造句
- 但是需要增加双面光刻机、湿法腐蚀台和键合机三项MEMS特有的工艺设备。
- MEMS加工除了使用大量传统的IC工艺，还需要一些特殊工艺，如双面刻蚀，双面光刻等。
- 我室近期研发的URE?2000型系列i线深度光刻机，单、双面光刻机，不断在关键技术上取得创新与突破，尤其在深度光刻中具有特色，对开展微电子，微光学、微机械系统、光电器件、准LIGA及声表面波等器件的研制和生产深层光刻器件具有突出的功能和用途，受到国内、外众多用户的青睐和赞赏。
- 研究院所属实验室面积为5000m2，其中净化面积1400m2，主要设备：高真空纳米薄膜溅射系统、多靶磁控溅射系统、双面光刻机、反应离子刻蚀仪、扫描电子显微镜、电化学分析仪、等离子增强化学气相沉积仪、电子束蒸发沉积设备、真空热压机、俄歇电子能谱仪、表面轮廓仪、氧化扩散炉、4吨18兆去离子水系统、高效液相色谱仪、荧光分光光度计、Zata电位分析仪等设备构成微器件与微系统研究和纳米生物医学与纳米器件研究的主要装备。
- 实验室仪器设备约3000万元，已购置了十余套大型科学仪器设备，包括紫外显微荧光光谱测试仪、真空型傅立叶红外光谱仪、自动椭圆偏振光谱仪、强光学超导磁体变温测量系统、三级激光拉曼光谱仪、钛宝石激光器、光学参数放大器、皮秒YAG激光系统、综合物性测量系统、多功能原子力显微镜、变温探针台、铁电测试仪、介电频谱仪等光电子学测试系统，以及高真空脉冲激光沉积系统（PLD）、原子层沉积系统（ALD）、高性能纳米材料制备系统、电子束蒸发设备、等离子体增强化学气相沉积系统、溶胶－凝胶（Sol-Gel）系统、双面光刻机、感应耦合等离子体刻蚀机等材料和器件的制备系统，依托单位计划再投入2000余万元专项经费，实验室已经开始着手构建新一期的材料制备和表征仪器设备的购置，包括磁控直流/射频溅射仪、双晶X衍射仪（XRD）、分子束外延（MBE）等。
- 用双面光刻造句挺难的，這是一个万能造句的方法